電極回転誘導加熱真空ガス噴霧装置

簡単な説明：

EIGA電極誘導溶解不活性ガス噴霧装置は、セラミックるつぼを使用せずに、不活性ガス環境下で予め製造された電極棒を溶解・精製します。溶融金属はノズルを連続的に垂直に通過します。溶融金属は高速気流によって粉砕され、多数の微細な液滴に噴霧されます。これらの液滴は飛行中に凝固して球状粉末を形成します。粉末ガス混合物は搬送管を通して水冷式サイクロン分離器に送られ、分離されます。微細な金属粉末は真空密封された粉末収集器に回収されます。

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製品詳細

商品タグ

特徴

1. 水冷るつぼや分流管と接触しないため、材料が汚染されることはありません。EIGA技術は、ほぼすべての活性物質および耐火金属粉末の製造に適しています。
2. 技術的な最適化により、粉末の粒度分布、球形度、酸素含有量を効果的に制御できます。
3. 2段階サイクロン分級収集システムの設計により、粉体の収率が向上し、微細粉塵の排出が削減または排除されます。
4. 輸入されたヨーロッパのプロ仕様ノズル技術と製造プロセス。

技術仕様

モデル	電力（kW）	周波数（Hz）	冷却水流量（トン/時）	冷却水圧力（MPa）	最高温度（℃）	限定真空度（Pa）
OWN-50/500	100	200	8～12歳	0.3	200	6.67*10^-3
EIGA-80/800	160	200	8～12歳	0.3	200	6.67*10^-3