カスタマイズされた真空誘導溶解炉

簡単な説明：

真空誘導溶解 (VIM) は、真空下での電磁誘導による金属の溶解です。誘導コイルで囲まれた耐火物で裏打ちされたるつぼを含む誘導炉が真空チャンバー内に配置されています。誘導炉には、炉のサイズと溶解する材料に正確に相関する周波数の電源が接続されています。

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製品の詳細

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説明

材料は真空下で誘導炉に装入され、装入物を溶かすために電力が加えられます。液体金属の体積を希望の溶融容量にするために、追加料金がかかります。溶融金属は真空下で精製され、正確な溶融化学反応が達成されるまで化学反応が調整されます。不純物は化学反応、解離、浮選、揮発により除去されます。所望の溶融化学反応が達成されたら、予熱されたタンディッシュがバルブで隔離された高温タンディッシュ挿入ロックを通して挿入されます。この耐火タンディッシュは誘導炉の前に配置され、溶融金属はタンディッシュを通して待機中の鋳型に注がれます。

VIM は、超合金、ステンレス鋼、磁性合金およびバッテリー合金、電子合金、その他の要求の厳しい高価値合金の製造に使用されるプロセスです。

構成と用途

炉本体、カバー、センサー、溶解るつぼ、保温材、装入ボックス、カバー昇降機構、真空装置、中周波電源、電気制御盤、温度測定器で構成されています。フェリカ基、ニッケル基、高温合金などの精密合金、磁性材料の精錬および精密鋳造に適しています。

技術的パラメータ

モデル	容量(KG)	Ltd 真空(Pa)	最高温度(℃）	電力（KW）	周波数（Hz）
ZLP-5	5	6.67*10^-3	1800	50	8000
ZLP-10	10	6.67*10^-3	1800	50	4000
ZLP-25	25	6.67*10^-3	1800	100	2500
ZLP-50	50	6.67*10^-3	1800	100	2500
ZLP-100	100	6.67*10^-3	1800	160	2500
ZLP-200	200	6.67*10^-3	1800	250	2500
ZLP-300	300	6.67*10^-3	1800	300	1000
ZLP-500	500	6.67*10^-3	1800	500	1000
ZLP-1000	1000	6.67*10^-3	1800	700	1000
ZLP-1500	1500	6.67*10^-3	1800	1000	1000
ZLP-2000	2000年	6.67*10^-3	1800	1500	1000