特注真空誘導溶解炉

簡単な説明：

真空誘導溶解（VIM）とは、真空下で電磁誘導を利用して金属を溶解する技術である。真空チャンバー内には、耐火材で覆われたるつぼを誘導コイルで囲んだ誘導炉が設置されている。誘導炉には、炉のサイズと溶解する材料に正確に対応した周波数の電源が接続されている。

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製品詳細

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説明

真空下で誘導炉に材料を投入し、電力を供給して溶融させる。溶融金属の量を所望の溶解容量まで増やすために、追加の投入を行う。溶融金属は真空下で精製され、正確な溶融化学組成が得られるまで化学組成が調整される。不純物は化学反応、解離、浮選、揮発によって除去される。所望の溶融化学組成が得られたら、予熱されたタンディッシュをバルブで隔離された高温タンディッシュ挿入ロックを通して挿入する。この耐火タンディッシュは誘導炉の前に配置され、溶融金属はタンディッシュを通して待機中の鋳型に注がれる。

VIMは、超合金、ステンレス鋼、磁性合金、電池用合金、電子合金、その他要求の厳しい高付加価値合金を製造するために用いられるプロセスである。

組成と用途

本装置は、炉本体、蓋、センサー、溶解るつぼ、断熱材、装入箱、蓋昇降機構、真空ユニット、中周波電源、電気制御盤、温度測定器で構成されています。鉄系合金、ニッケル系合金、高温合金、その他の精密合金および磁性材料の溶解および精密鋳造に適しています。

技術仕様

モデル	容量（kg）	株式会社求人(Pa)	最高温度（℃）	電力（kW）	周波数（Hz）
ZLP-5	5	6.67*10^-3	1800	50	8000
ZLP-10	10	6.67*10^-3	1800	50	4000
ZLP-25	25	6.67*10^-3	1800	100	2500
ZLP-50	50	6.67*10^-3	1800	100	2500
ZLP-100	100	6.67*10^-3	1800	160	2500
ZLP-200	200	6.67*10^-3	1800	250	2500
ZLP-300	300	6.67*10^-3	1800	300	1000
ZLP-500	500	6.67*10^-3	1800	500	1000
ZLP-1000	1000	6.67*10^-3	1800	700	1000
ZLP-1500	1500	6.67*10^-3	1800	1000	1000
ZLP-2000	2000	6.67*10^-3	1800	1500	1000